Qu'est-ce que le masquage des ombres ? 

Dans la fabrication des semi-conducteurs, les plaques métalliques de pochoir ou les masques d'ombre peuvent être utilisés pour désigner l'endroit où un métal est déposé sur un substrat. Le pochoir sert de support pour réaliser des dessins personnalisés sur un substrat sans avoir recours aux procédés de photolithographie. Il s'agit de masquer certaines zones d'un substrat et d'en exposer d'autres pour y déposer du métal.  

Les masques d'ombre sont généralement fabriqués à partir de fines feuilles d'acier inoxydable ou de nickel. La création de masques d'ombre peut s'avérer assez difficile, car l'usinage requis peut être difficile à obtenir et donner lieu à des bords irréguliers. Pour les conceptions de haute précision, le masquage des ombres peut présenter certaines difficultés. Il est souvent plus difficile d'obtenir des caractéristiques de petite taille avec les masques fantômes qu'avec les méthodes de fabrication par photolithographie. Les masques d'ombre sont mieux adaptés aux applications à faible résolution (>0,7 mm). En photolithographie, les dessins sont transférés sur un substrat à l'aide d'un photomasque et d'une exposition aux UV. Cependant, les processus de photolithographie entraînent souvent des coûts de fabrication plus élevés. La production par photolithographie repose sur la création de motifs par l'application de résine photosensible et sur une forme d'élimination des zones non désirées (décollement du métal ou gravure par voie humide). Ces procédés nécessitent des résines photosensibles et des solvants coûteux, alors que les matériaux du substrat peuvent être soumis à des quantités accrues d'erreurs en raison d'une série de facteurs variables.  

Le masquage d'ombre offre un mécanisme plus mécanique pour transférer les dessins en utilisant un pochoir métallique qui peut être directement utilisé dans les processus d'évaporation en chambre à vide. La fixation d'un substrat et d'un masque d'ombre dans une chambre à vide constitue également un défi. Contrairement aux méthodes de fixation habituelles, des aimants peuvent être utilisés pour maintenir le substrat et le masque en place. La force de l'aimant peut déterminer le degré de contact de surface entre le masque et le substrat. Plus l'aimant est puissant, plus le contact de surface entre les matériaux est direct. Après le dépôt de métal, le masque est décollé du substrat pour révéler le motif. Le masquage par ombrage peut réduire considérablement les coûts de production en fournissant une méthode plus reproductible pour créer des surfaces à motifs personnalisés. Contrairement à la photolithographie, le masquage par ombrage ne nécessite pas l'utilisation de résine photosensible et de solvants coûteux.  

La fabrication de dispositifs microélectroniques peut être réalisée par masquage par ombrage. Le masquage par ombrage est une méthode hautement reproductible qui permet de créer une surface à faible rugosité, recouverte d'un métal de grande pureté. Les applications comprennent la création d'électrodes à motifs personnalisés, de capteurs, de tampons de collage, de dispositifs MEM, etc.  

Chez Platypus Technologies, nous avons travaillé à l'optimisation de nos services de masquage d'ombres afin d'obtenir de meilleurs résultats. Nous offrons des services de masquage d'ombre personnalisables pour revêtements métalliques. Il vous suffit de nous fournir votre dessin et nous le reproduirons sur un pochoir métallique fin. Les substrats spécifiés par le client seront ensuite revêtus grâce à nos services de dépôt de métal sur mesure par dépôt physique en phase vapeur. Nos capacités sont conformes aux projets de petites séries comme le prototypage. Contactez-nous dès aujourd'hui à l'adresse suivante