Services de photolithographie
Platypus Technologies propose des services de photolithographie pour la fabrication de surfaces à motifs. Les applications comprennent la fabrication de capteurs chimiques, de biocapteurs, d'électrodes et de dispositifs optiques.
La photolithographie est un procédé qui utilise la lumière ultraviolette (UV) pour modeler un revêtement sensible à la lumière (appelé résine photosensible) déposé sur un substrat. Un masque est placé sur la résine photosensible pour empêcher la lumière UV d'éclairer certaines zones, de sorte que seules les régions non masquées sont exposées à la lumière. Le motif géométrique de la résine photosensible est révélé en éliminant les zones non traitées à l'aide d'un solvant organique ou aqueux approprié. Platypus Technologies stocke des résines photosensibles négatives et positives pour diverses applications.
Le motif de la résine photosensible est transféré sur une fine couche d'aluminium. film métallique ou film diélectrique par le biais de deux techniques différentes : le décollage du métal ou la gravure humide.
Levage par le métal : La dépose de métal est un processus par lequel un substrat (verre, silicium, céramique, etc.) est d'abord recouvert d'un film de résine photosensible à motifs, semblable à un pochoir. Ensuite, un film métallique ou diélectrique est déposé sur le substrat recouvert de résine photosensible. Le film métallique ou diélectrique ne se lie au substrat que dans les zones non protégées par le film de résine photosensible. Les zones du substrat protégées par la résine photosensible ne se lient pas au film métallique ou diélectrique déposé. Enfin, la résine photosensible est dissoute dans un bain de solvant pour révéler le film métallique ou diélectrique lié au substrat.
Gravure humide : Pour la gravure humide, la résine photosensible est déposée et modelée sur le film métallique. Les zones du métal qui ne sont pas protégées par la résine photosensible sont enlevées à l'aide de produits chimiques liquides soigneusement sélectionnés. La résine photosensible est enlevée par un solvant ou par O2 pour révéler le motif du film métallique.
Les méthodes de préparation de la surface avant et après le traitement sont les suivantes : O2 plasma ou dépôt de silanes (par exemple HMDS, silanes fluorés) et revêtements de protection.
Chez Platypus Technologies, les services de photolithographie sont assurés dans une unité de production dédiée. salle blanche (classe 1000) équipée de contrôles environnementaux, ce qui garantit à nos clients des pièces de haute qualité.
Les applications comprennent les plaquettes à motifs SU-8 pour la microfluidique, les électrodes interdigitées, les capteurs électrochimiques, les plaques optiques à séparation de faisceau, les réseaux de pixels, les électrodes en oxyde d'indium-étain (ITO), les électrodes flexibles, et bien d'autres encore.
Capacités
- Système d'exposition aux UV hautement collimatés de 365 nm
- Types de résine photosensible : positive, lift-off.
- Substrats : verre, silicium, métaux, céramiques, polyimide.
- Résolution minimale des caractéristiques : 5-µm
- Supports circulaires jusqu'à 6" de diamètre
- Supports carrés jusqu'à 4 "x4"
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