포토리소그래피 서비스

플래티퍼스 테크놀로지스는 패턴 표면 제작을 위한 포토리소그래피 서비스를 제공합니다. 응용 분야에는 화학 센서, 바이오 센서, 전극 및 광학 장치 제작이 포함됩니다.

포토리소그래피는 자외선(UV) 광선을 사용하여 기판에 증착된 감광 코팅(포토레지스트라고 함)을 패턴화하는 공정입니다. 포토레지스트 위에 마스크를 씌워 UV 광선이 특정 영역을 비추는 것을 차단하여 마스크를 씌우지 않은 영역만 빛에 노출되도록 합니다. 적절한 유기 또는 수성 용매를 사용하여 처리되지 않은 영역을 제거하면 포토레지스트의 기하학적 패턴이 드러납니다. Platypus Technologies는 다양한 애플리케이션을 위한 네거티브 및 포지티브 포토레지스트를 모두 보유하고 있습니다.

포토레지스트 패턴이 얇게 전사됩니다. 금속 필름 또는 유전체 필름 금속 리프트오프 또는 습식 에칭이라는 두 가지 기술을 통해 이루어집니다.

메탈 리프트 오프: 금속 리프트오프는 기판(유리, 실리콘, 세라믹 등)에 스텐실과 유사한 패턴의 포토레지스트 필름을 먼저 코팅하는 공정입니다. 다음으로 포토레지스트가 코팅된 기판 위에 금속 또는 유전체 필름을 증착합니다. 금속 또는 유전체 필름은 포토레지스트 필름으로 보호되지 않은 영역에서만 기판에 결합합니다. 포토레지스트로 보호되는 기판의 영역은 증착된 금속 또는 유전체 필름에 결합하지 않습니다. 마지막으로 포토레지스트를 용매조에서 용해하여 기판에 결합된 패턴화된 금속 또는 유전막을 드러냅니다.

습식 에칭: 습식 에칭의 경우 포토레지스트가 금속 필름 위에 증착되고 패터닝됩니다. 포토레지스트로 보호되지 않는 금속 영역은 엄선된 액체 화학 물질로 제거합니다. 포토레지스트는 솔벤트로 제거하거나 O₂ 플라즈마를 사용하여 금속 필름의 패턴을 드러냅니다.

사용 가능한 표면 전처리 및 후처리 준비 방법은 다음과 같습니다.₂ 플라즈마 또는 실란(예: HMDS, 플루오르화 실란) 증착 및 보호 코팅.

플래티퍼스 테크놀로지의 포토리소그래피 서비스는 전용 클린룸 환경 제어 장치를 갖춘 시설(클래스 1000)을 갖추고 있어 고객에게 고품질의 부품을 보장합니다.

응용 분야에는 미세 유체, 숫자 간 전극, 전기 화학 센서, 빔 분할 광학 플레이트, 픽셀 어레이, 인듐 주석 산화물(ITO) 전극, 플렉시블 전극 등을 위한 SU-8 패턴 웨이퍼가 있습니다.

기능

365nm 고집적 자외선 노출 시스템
포토레지스트 유형: 포지티브, 리프트 오프.
기판: 유리, 실리콘, 금속, 세라믹, 폴리이미드.
최소 피처 해상도: 5µm
최대 6인치 지름의 원형 기판
최대 4"x4" 정사각형 용지

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