使用阴影遮罩对金属表面进行图案化处理

表面图案化描述的是以极高精度改变基底的制造方法。

对于各学科的科学家来说，对详细表面结构的需求越来越普遍，而创建这些表面图案的方法有很多。

在本博客中，我们将讨论使用阴影掩模进行表面图案化的问题，这是快速、可重复地制造微电子薄膜元件的重要工具。

什么是阴影面具？

阴影掩膜是一种金属片，上面切割有图案化的小孔。在金属沉积过程中，这些金属片被放置在玻璃、硅、陶瓷或柔性薄膜等基底之上。

阴影掩膜上的图案决定了基底上将涂覆金属的区域和不涂覆金属的区域。

阴影掩蔽与电子束金属沉积相结合，是一种 一步法 用于制造高质量的图案化电极、传感器、加热丝、接合垫以及微电子设备中常见的其他特征。

阴影面具的优势

与需要有机墨水的丝网印刷方法不同，电子束金属沉积法使用的阴影掩膜利用的是纯度非常高的金属。因此，用阴影掩膜制作的金属图案具有以下优点：

• 极高的再现性
• 表面粗糙度低（<5-nm）
• 高纯度金属（金、铂和其他金属的纯度大于 99.999%）

丝网印刷的特征有油墨残留的有机物质，经常会造成不受欢迎的污染。 此外，丝网印刷的边缘和表面特征非常粗糙，这意味着其结果的可重复性和再现性要差得多。

与基于光刻技术的表面图案化方法相比，阴影掩蔽不需要昂贵的光掩模、光激活材料或昂贵的加工设备，如热板、旋涂器和溶剂工作台。与光刻法相比，阴影掩膜法更容易实施，成本也更低。

阴影掩模非常适合分辨率相对较低的应用（大特征 >250 微米）。 若要制造公差严格的精细特征（1 至 250 微米），建议采用基于光刻技术的方法。

鸭嘴兽科技公司利用阴影遮罩进行表面图案化

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