光学镀膜
Platypus Technologies 提供薄膜光学涂层的设计和沉积服务。 我们的产品包括抗反射 (AR) 涂层、高反射介质镜涂层和分光镜涂层。
我们利用电子束蒸发法依次沉积电介质材料，从而制造出光学镀膜。可用的材料包括氟化镁（MgF2）、二氧化硅（SiO2）、氧化铝（Al2O3）、氧化铪（HfO2）和二氧化钛（TiO2).我们专注于在 300 纳米到 1,100 纳米的波长范围内提供满足特定需求的定制解决方案。
抗反射涂层
抗反射 (AR) 镀膜旨在降低光学元件的反射率，并增加所需波长范围内的透射率。典型的抗反射涂层包括单层 V 涂层、双波段或 2:1 AR 涂层以及宽带 AR 涂层。在每种情况下，都要对介质层的类型和厚度进行优化，以确保在客户指定的波长范围内反射率最小。
AR 涂层适用于激光器、照相机、显微镜组件和光电探测器的光学表面。
绝缘镜面涂层
电介质镜面镀膜也称为布拉格镜面镀膜，其目的是在选定的波长范围内提供最大的光反射率。此外，还可以为分光镜设计特定级别的反射率。与金属镜面涂层（如铝或银）相比，电介质镜面涂层的吸收率低，抗激光损伤能力强。
介质镜涂层的应用包括干涉仪、激光腔、望远镜和光谱仪的光学表面。
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