分类： 有机涂层

在半导体制造和微细加工领域，光刻技术是一种在基底表面形成复杂图案的基本技术。光刻工艺常用于电子、微流体和传感器领域，并在最终应用过程中形成保护层，防止其他制造工艺和机械磨损。要制作这些图案，需要在基底上涂抹掩膜和光刻胶，并对其进行曝光。曝光后，使用化学溶液对光阻剂进行显影，未曝光部分的光阻剂被溶解，从而形成所需的图案。

六甲基二硅氮烷（HMDS）是一种无色易燃液体，具有独特的化学结构。 在表面科学中，它经常被用作处理硅晶片表面的底剂，使其更适合与光刻胶粘合。在表面涂层应用中，使用 HMDS 作为前处理和后处理方法也很常见。在这篇博文中，我们将探讨 HMDS 在表面科学中的应用及其益处。

近年来，微流体技术已成为一种强大的工具，特别是在生物技术、化学和材料科学领域。它涉及在纳米级通道内对微量流体（通常只有几皮升）的精心控制。虽然规模较小，但微流控设备的潜在应用领域却非常广泛。然而，与大多数微米级和纳米级制造一样，微流体设备的工程设计也是一项具有挑战性的工作。 

金属涂层可用于各种行业和应用，以改善基材的特性和性能。添加金属涂层可以增强材料的外观和抗性等特性，使其适用于电子、医疗植入物和运输部件等各种应用。

红外光谱法，通常是红外反射吸收光谱法（IRRAS），是表征自组装单层等超薄层的常用方法。当红外线穿过样品时，部分辐射被吸收，部分被透过。红外探测器获取这些特征信号，生成代表样品分子指纹的光谱。这凸显了红外光谱学的内在价值；它可用于根据吸收/透射光谱特征来阐明分子组成。