光刻服务

Platypus Technologies 提供光刻技术服务，用于制造图案化表面。其应用包括制造化学传感器、生物传感器、电极和光学设备。

光刻技术是一种利用紫外线（UV）将沉积在基底上的光敏涂层（称为光刻胶）图案化的工艺。 在光刻胶上放置一个掩膜，以阻挡紫外线照射某些区域，这样只有未掩膜区域才会暴露在光线下。 使用适当的有机溶剂或水性溶剂去除未处理区域，光刻胶上的几何图案就会显现出来。 Platypus Technologies 库存的阴性和阳性光刻胶适用于各种应用。

光刻胶图案被转移到薄薄的 金属膜 或 介质膜 通过两种不同的技术：金属脱落或湿蚀刻。

金属升降机：  金属剥离是一种工艺，首先在基底（玻璃、硅、陶瓷等）上涂上图案化的光阻薄膜，类似于模板。然后，在涂有光刻胶的基底上沉积一层金属或介电薄膜。 金属膜或介电膜仅在未受光刻胶膜保护的区域与基底结合。 基底上受光刻胶保护的区域不会与沉积的金属或介电薄膜结合。最后，光刻胶在溶剂槽中溶解，露出与基底结合的图案化金属或介电薄膜。

湿蚀刻  在湿法蚀刻中，光刻胶沉积在金属膜上并形成图案。 未受光刻胶保护的金属区域会被精心挑选的液体化学品去除。 光刻胶可通过溶剂或 O2 等离子体，以显示金属膜的图案。

可用的表面预处理和后处理方法包括 O2 等离子体或硅烷（如 HMDS、氟化硅烷）沉积以及保护涂层。

鸭嘴兽科技公司的光刻服务在一个专门的 洁净室 设备（1000 级），配备环境控制装置，确保为客户提供高质量的零件。

其应用包括用于微流控的 SU-8 图案晶片、点阵间电极、电化学传感器、分光光学板、像素阵列、氧化铟锡 (ITO) 电极、柔性电极等。

能力

  • 365 纳米高度准直紫外线曝光系统
  • 光刻胶类型：正型、升降型。
  • 基底：玻璃、硅、金属、陶瓷、聚酰亚胺。
  • 最小特征分辨率：5 微米
  • 直径达 6 英寸的圆形基板
  • 正方形基底，最大尺寸为 4 "x4"
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