Modélisation de surfaces métalliques à l'aide de masques d'ombre

Le modelage de surface décrit les méthodes de fabrication qui modifient les substrats avec une extrême précision.

La nécessité de disposer de structures de surface détaillées est de plus en plus fréquente pour les scientifiques dans toute une série de disciplines, et il existe de nombreux moyens de créer ces motifs de surface.

Dans ce blog, nous abordons le modelage de surface à l'aide de masques d'ombre, un outil important pour la fabrication rapide et reproductible de composants en couches minces pour la microélectronique.

Qu'est-ce qu'un masque d'ombre ?

Les masques d'ombrage sont des feuilles de métal dans lesquelles des trous ont été découpés. Ces feuilles sont ensuite placées sur un substrat tel que le verre, le silicium ou la céramique, ou sur des films flexibles pendant le dépôt de métal.

Le motif du masque d'ombre détermine les zones du substrat qui seront recouvertes de métal et celles qui ne le seront pas.

Le masquage de l'ombre, associé au dépôt de métal par faisceau d'électrons, est une méthode qui permet de réduire les coûts de production et d'augmenter la productivité. processus en une étape pour la fabrication d'électrodes, de capteurs, de fils chauffants, de coussinets de collage et d'autres caractéristiques couramment rencontrées dans les dispositifs microélectroniques.

Avantages des masques d'ombres

Contrairement aux méthodes de sérigraphie qui nécessitent des encres organiques, les masques d'ombre utilisés avec le dépôt de métal par faisceau d'électrons utilisent des métaux d'une très grande pureté. Les motifs métalliques produits à l'aide de masques d'ombrage présentent donc les avantages suivants :

• Très grande reproductibilité
• Faible rugosité de surface (<5-nm)
• Métaux de haute pureté (>99,999% pour Au, Pt et autres métaux)

Les caractéristiques imprimées en sérigraphie comportent des matières organiques résiduelles provenant des encres qui créent souvent une contamination indésirable. En outre, la sérigraphie donne des bords et des caractéristiques de surface très rugueux, ce qui signifie que les résultats sont beaucoup moins répétables et reproductibles.

Par rapport aux méthodes de structuration des surfaces basées sur la photolithographie, le masquage par ombres portées ne nécessite pas de masques photographiques coûteux, de matériaux photoactivés ou d'équipements de traitement onéreux tels que des plaques chauffantes, des spin-coaters et des bancs de solvants. Le masquage par ombres portées est plus facile à mettre en œuvre et moins coûteux que la photolithographie.

Les masques d'ombre sont bien adaptés aux applications à résolution relativement faible (grandes caractéristiques >250 µm). Pour la fabrication de caractéristiques fines (1 à 250 µm) avec des tolérances serrées, les méthodes basées sur la photolithographie sont recommandées.

Création de motifs de surface à l'aide de masques d'ombre chez Platypus Technologies

Chez Platypus Technologies, nous proposons des services de conception, de fabrication de masques d'ombre avec des motifs personnalisés, de dépôt de métal pour créer des électrodes, des capteurs, des lignes de chauffage et d'autres lignes de circuit. Nous disposons d'une gamme de surfaces métalliques (Au, Ag, Al, Pt, Ni, Ti, Cr) et des substrats (verre, silicium, céramique, films souples) pour produire des revêtements sur mesure adaptés à vos projets les plus complexes. Nos services de découpage et de découpe permettent d'individualiser les dispositifs pour des applications "plug-and-play". Contactez nous aujourd'hui pour discuter de votre projet !