使用光刻技术进行表面图案化

什么是光刻技术？

光刻技术，有时也称为光学光刻技术或紫外光刻技术，是一种用于微细加工的工艺，可对薄膜的各个部分或基底的整体进行表面图案化。光刻技术利用光将几何图案从光罩转移到基底上的光敏化学光刻胶或简单的抗蚀剂上。

然后通过一系列化学处理，对暴露的表面进行雕刻，在材料上形成图案。或者，也可以在光刻胶下面的材料上按所需图案沉积新材料。

光刻技术与摄影有一些相似之处，因为蚀刻是通过直接或间接使用投影图像照射光线形成的。光刻技术可与用于制造印刷电路板的高精度技术相媲美。

光刻胶图案通过两种技术之一转移到金属薄膜上，用于表面图案化：

湿蚀刻 在这种方法中，光刻胶沉积在金属薄膜上并形成图案。然后使用化学药剂去除未被薄膜覆盖的区域。

金属升降机、 一种工艺，将金属薄膜置于图案化的光刻胶之上，然后将光刻胶本身溶解，以显示金属薄膜的图案。 

光刻技术表面图案化的优势

光刻技术用于表面图案化，可制作极小的图案，并可对所制作物体的形状和尺寸进行严格控制。光刻技术还能以经济有效的方式在整个表面上制作图案。不过，光刻技术始终需要一个平坦的基底和极其洁净的操作条件。这种表面图案制作方式具有很高的成本效益和效率。

通过光刻技术进行表面图案化的主要应用

通过光刻技术进行表面图案化可形成集成电路和其他计算机内部零件。它可用于生产纳米粒子和微型计算机系统，以及任何需要小型表面图案的应用。

光刻技术是否适合您的应用？

可以使用包括光刻技术在内的一系列表面图案化技术。光刻技术有很多优点，从精确度到成本效益都很高。

Platypus 技术提供一系列适用于工业和学术应用的金属镀膜服务。Platypus 拥有 100 级洁净室和光刻工作流程，可提供出色的重复性和高质量的表面图案。

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