Verwendung der Photolithographie für die Oberflächenstrukturierung

Was ist Photolithographie?

Die Fotolithografie, manchmal auch als optische Lithografie oder UV-Lithografie bezeichnet, ist ein Verfahren, das in der Mikrofabrikation zur Oberflächenstrukturierung von Teilen einer Dünnschicht oder des Großteils eines Substrats eingesetzt wird. Bei der Fotolithografie wird ein geometrisches Muster mit Hilfe von Licht von einer Fotomaske auf einen lichtempfindlichen chemischen Fotolack oder einfach auf das Substrat übertragen.

Anschließend wird die freiliegende Oberfläche durch eine Reihe chemischer Behandlungen graviert, um ein Muster im Material zu erzeugen. Alternativ kann auch neues Material mit dem gewünschten Muster auf das Material unter dem Fotolack aufgebracht werden.

Die Fotolithografie weist insofern Ähnlichkeiten mit der Fotografie auf, als die Ätzung durch direkte oder indirekte Belichtung mittels eines projizierten Bildes entsteht. Die Fotolithografie ist vergleichbar mit der hochpräzisen Version der Technik, die zur Herstellung von Leiterplatten verwendet wird.

Das Fotolackmuster wird bei der Oberflächenstrukturierung verwendet, indem es mit einer von zwei Techniken auf eine dünne Metallschicht übertragen wird:

Nass-Radierung, bei dem der Fotolack auf die Metallschicht aufgebracht und strukturiert wird. Die Bereiche, die nicht von der Schicht bedeckt sind, werden dann mit Chemikalien entfernt.

Abheben von Metall, ein Verfahren, bei dem eine dünne Metallschicht auf den strukturierten Fotolack aufgebracht wird und dann der Fotolack selbst aufgelöst wird, um das Muster der Metallschicht sichtbar zu machen. 

Die Vorteile der fotolithografischen Oberflächenstrukturierung

Die Fotolithografie wird bei der Oberflächenstrukturierung zur Herstellung extrem kleiner Muster verwendet und ermöglicht eine genaue Kontrolle über Form und Größe der erzeugten Objekte. Mit der Fotolithografie können auch Muster auf einer ganzen Fläche kostengünstig erzeugt werden. Allerdings erfordert die Fotolithografie immer ein ebenes Substrat und extrem saubere Betriebsbedingungen. Diese Form der Oberflächenstrukturierung ist äußerst kostengünstig und effizient.

Hauptanwendungen der Oberflächenstrukturierung durch Photolithographie

Durch die Oberflächenstrukturierung mittels Fotolithografie werden integrierte Schaltkreise und andere interne Computerteile hergestellt. Sie kann für die Herstellung von Naniten und mikroskopisch kleinen Computersystemen sowie für alle Anwendungen verwendet werden, die eine kleine Oberflächenstrukturierung erfordern.

Ist die Photolithographie das richtige Oberflächenstrukturierungsverfahren für Ihre Anwendung?

Es gibt eine Reihe von Verfahren zur Oberflächenstrukturierung, darunter die Fotolithografie, die eingesetzt werden können. Die Fotolithografie hat viele Vorteile, von der Präzision bis zur Kosteneffizienz.

Platypus Technology bietet eine Reihe von Metallbeschichtungsdienstleistungen an, die sowohl für industrielle als auch für akademische Anwendungen geeignet sind. Platypus verfügt über einen Reinraum der Klasse 100 und einen Fotolithografie-Workflow, der eine hervorragende Wiederholbarkeit und eine hochwertige Oberflächenstrukturierung ermöglicht.

Die Oberflächenstrukturierung von Platypus wurde bereits für neue Biosensorchips, Platinelektroden, Goldschichten auf flexiblen Substraten und vieles mehr eingesetzt. Wenn Sie mehr über die Platypus Dienstleistungen im Bereich der photolithografischen Oberflächenstrukturierung erfahren möchten, nehmen Sie noch heute Kontakt mit dem Team auf.