Goldbeschichtete Siliziumwafer und -chips

Mit reinem Gold (99,999%) beschichtete Siliziumwafer und -chips sind ideale Substrate für die Charakterisierung von Materialien über Spektroskopie, Mikroskopie und Elektrochemie. Unsere Produkte sind auf Präzision und Konsistenz ausgelegt und bieten Forschern und Wissenschaftlern eine zuverlässige Grundlage für bahnbrechende Entdeckungen.

Goldbeschichtete Siliziumwafer

Produktübersicht: Unsere Siliziumscheiben, 100 mm große Scheiben mit einer Dicke von 525 µm, bestehen aus dünnen Goldschichten, die über eine Titan-Haftschicht gelegt sind. Diese Wafer sind für Präzision und Zuverlässigkeit in verschiedenen wissenschaftlichen Forschungsbereichen ausgelegt.

Erhältlich in verschiedenen Packungsgrößen für unterschiedliche analytische Anforderungen. Gewährleistet eine verbesserte Leitfähigkeit und Haltbarkeit für elektrochemische Experimente sowie ein hervorragendes Reflexionsvermögen, ideal für detaillierte spektroskopische Analysen.

Verfügbare Varianten: 50-nm-Goldfolie ODER 100-nm-Goldfolie. Kontakt für die individuelle Dicke der Goldschicht.

Beschreibung
Silizium-Wafer beschichtet mit 50-nm-Gold - 1 Wafer	JETZT KAUFEN
Mit 50-nm-Gold beschichtete Silizium-Wafer - 3 Wafer	JETZT KAUFEN
Silizium-Wafer beschichtet mit 100-nm-Gold - 1 Wafer	JETZT KAUFEN
Silizium-Wafer beschichtet mit 100-nm-Gold - 3 Wafer	JETZT KAUFEN
Silizium-Wafer beschichtet mit 100-nm-Gold - 12 Wafer	JETZT KAUFEN

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Goldbeschichtete Siliziumchips

Quadratische Chips aus Silizium mit Abmessungen von 10 mm x 10 mm x 0,525 mm werden mit einem 100-nm-Goldfilm über einer Titan-Haftschicht beschichtet. Goldbeschichtete Chips sind leicht zu handhaben und helfen bei der Abfallreduzierung, insbesondere bei Experimenten oder Prozessen, bei denen nicht die gesamte Oberfläche eines größeren Wafers genutzt werden kann.

Wenn Sie goldbeschichtete Siliziumchips mit anderen Abmessungen benötigen, wenden Sie sich bitte an Kontaktieren Sie uns.

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Beschreibung
Siliziumchips (10 mm x 10 mm), beschichtet mit 100-nm-Gold - 20 Chips	JETZT KAUFEN

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Goldbeschichtete thermische Oxid-Siliziumwafer

Unsere Siliziumwafer sind 100-mm-Scheiben mit einer Dicke von 525 µm und einer Dicke der thermischen Oxidschicht von 285-nm +/- 5%. Goldschicht über Titan-Haftschicht (zur Förderung der mechanischen Stabilität der Dünnschicht). Ideal für die Herstellung von Sensoren, Biosensoren und Elektroden mittels Photolithographie und Nassätzverfahren.

Beschreibung
Silizium-Wafer mit thermischer Oxidschicht, beschichtet mit 50-nm-Gold - 1 Wafer.	JETZT KAUFEN

Maßgeschneiderte Lösungen

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Anwendungen

Unsere hochwertigen goldbeschichteten Siliziumwafer sind mit einer dünnen Titan-Haftschicht versehen, die die Haftung der Goldschicht auf der Siliziumbasis verbessert und so Haltbarkeit und Zuverlässigkeit gewährleistet. Die Goldbeschichtungen von Platypus Technologies bestehen aus 99,999% reinem Gold für hervorragende elektrisch Leitfähigkeit und optisch Reflexionsvermögen.

Diese goldbeschichteten Wafer sind ideal für eine Reihe von wissenschaftlichen Anwendungen und dienen als perfekte Substrate für analytische Charakterisierung von Materialien in der Chemie, Biochemie und Nanotechnologie. Sie werden in großem Umfang in der Dünnschichtanalyse, der Nanopartikelforschung, der Proteinforschung und bei selbstorganisierten Monoschichten eingesetzt. Ihre Kompatibilität mit verschiedenen spektroskopischen Techniken, einschließlich Elektrochemie, IR-Spektroskopie, Raman-Spektroskopie, Röntgenspektroskopie und Ellipsometrie, macht sie zu einer vielseitigen Wahl für Forscher und Wissenschaftler.

So können beispielsweise Materialien, die auf goldbeschichteten Wafern abgeschieden wurden, aufgrund des hohen Reflexionsvermögens und der günstigen optischen Eigenschaften von Gold mittels Ellipsometrie, Raman-Spektroskopie oder Infrarot (IR)-Spektroskopie analysiert werden. 

Darüber hinaus sind unsere goldbeschichteten Siliziumwafer für die Herstellung komplexer elektrochemischer Geräte unverzichtbar. Sie sind eine bevorzugte Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Elektrodenelektrochemisch Sensorenund photonische Gerätedank ihres hohen Reflexionsvermögens und ihrer günstigen optischen Eigenschaften. Diese Wafer sind auch ideal für die Entwicklung von selbstorganisierende Monoschichten und andere hochmoderne Technologien.

Entdecken Sie das Potenzial von goldbeschichteten Siliziumchips und -wafern für Ihre Forschungs- und Entwicklungsprojekte. Ihre umfassende Anwendung bei der Materialcharakterisierung, insbesondere durch Ellipsometrie, Raman-Spektroskopie und IR-Spektroskopie, unterstreicht ihre Anpassungsfähigkeit und Effizienz bei der wissenschaftlichen Erforschung und technologischen Innovation. Entscheiden Sie sich für unsere goldbeschichteten Siliziumwafer, wenn Sie für Ihre fortschrittlichen Forschungs- und Produktionsanforderungen eine unvergleichliche Leistung benötigen.

Studien, bei denen goldbeschichtete Wafer verwendet wurden:

• Elektrochemische Impedanz von Polyamid-Dünnschichten
• Nanomaterialien aus zyklischen β-Peptid-Polymeren
• Zwei-Photonen-Photochroismus in Metasurface-Absorbern
• Bakteriophagen-basierte photonische Nase zur Zellerkennung
• Strukturierung von Monoschichten mittels Lift-off-Lithographie
• Nanopartikel für verbesserte Raman-Spektroskopie

Verwandte Seiten: Weitere veröffentlichte Studien mit goldbeschichteten Siliziumwafern

Blogs über goldbeschichtete Wafer

• Goldbeschichtete Silizium-Wafer: Eigenschaften und Anwendungen
• Goldbeschichtete Siliziumwafer in der Elektrochemie
• Elektrochemische Analyse von Farbstoffen mit Goldelektroden

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Häufig gestellte Fragen