Goldbeschichtete Siliziumwafer in der Elektrochemie

Goldbeschichtete Oberflächen spielen eine zunehmend wichtige Rolle bei der Präzisionsbildgebung verschiedener biochemischer Phänomene. Es gibt viele einzigartige Eigenschaften, die Goldoberflächen ideal für Beobachtungen auf atomarer Ebene machen, darunter ein nahezu vollständiges (>99%) Reflexionsvermögen im Infrarotbereich (IR) und nützliche Adsorptionseigenschaften mit bioaktiven Auswirkungen. Dies hat sich bei verschiedenen Formen der IR-Spektroskopie als entscheidend erwiesen, bei denen goldbeschichtetes Glas als Substrat für Biomoleküle von Interesse verwendet wird. Aber Glas und Glimmer sind nicht die einzigen Substrate, die für mikroskopisch dünne Goldschichten verwendet werden.

Bei Platypus Technologies entwickeln wir goldbeschichtete Siliziumwafer, die die einzigartige elektrische Leitfähigkeit sowohl des Substrats als auch der Beschichtung nutzen, um fortschrittliche elektrochemische Experimente zu ermöglichen.

Skizzieren von goldbeschichteten Siliziumwafern

Siliziumscheiben dienen in der Regel als Unterlage für mikroelektronische Geräte wie integrierte Chips (ICs) und Festplatten (HDDs). Dies ist auf ihre einzigartigen halbleitenden Eigenschaften zurückzuführen, die dem Silizium eigen sind und durch das Vorhandensein bestimmter chemischer Dotierstoffe bestimmt werden. Durch die Modulation dieser elektrischen Eigenschaften können Siliziumscheiben so gestaltet werden, dass sie spezifische Ladungsträgerfähigkeiten aufweisen und als Elektroden für eine breite Palette von Anwendungen wie die elektrochemische Impedanzspektroskopie (EIS) verwendet werden können.

Was ist elektrochemische Impedanzspektroskopie?

EIS ist eine der anspruchsvollsten Formen der elektrochemischen Forschung, die detaillierte Einblicke in komplexe Phänomene wie Elektronenübergangswiderstand und Oberflächenempfindlichkeit bietet. Dabei wird ein Analyt auf einer halbleitenden Oberfläche unter einer angelegten Spannung immobilisiert und die Stromantwort gemessen. Manchmal müssen Siliziumwafer mit einem sekundären Grenzflächenmaterial funktionalisiert werden, um sie für EIS verwenden zu können. Ultradünne Goldbeschichtungen sind aufgrund ihrer außergewöhnlichen Ebenheit und ihrer nützlichen elektronischen Eigenschaften die bevorzugte Lösung für Siliziumsubstrate für die Elektrochemie.  

Die goldbeschichteten Siliziumwafer von Platypus Technologies wurden zur Untersuchung einer Vielzahl wichtiger Reaktionsmechanismen und elektrochemischer Phänomene mit Hilfe von EIS verwendet. Dazu gehört auch die Leistung von Entsalzungsmembranen als Funktion der Salzdurchlässigkeit von Polyamidfilmen. Dank der topografischen Einheitlichkeit im Angström-Maßstab und der hervorragenden Oberflächenreinheit konnte der differentielle Widerstand der Polyamidfilme in Abhängigkeit von der Dicke und der Lösungskonzentration bestimmt werden, was einen besseren Einblick in die Leistung osmotischer Entsalzungsmembranen ermöglichte. 

Goldbeschichtete Siliziumwafer von Platypus Technologies

Platypus Technologies hat einen hochmodernen Arbeitsablauf für die Entwicklung kundenspezifischer goldbeschichteter Siliziumwafer für die Elektrochemie und Mikroskopie entwickelt. Alle unsere Substrate basieren auf der physikalischen Gasphasenabscheidung mittels Elektronenstrahl auf hochreine Goldtargets, wobei ein hoher Grad an Adhäsion zwischen den dünnen Goldschichten und den darunter liegenden Substraten durch eine dazwischen liegende Titan-Haftschicht gefördert wird.

Wenn Sie mehr über die Spezifikationen unserer Produkte erfahren möchten goldbeschichtete Silizium-Wafer oder wissen wollen über PartnerschaftsmöglichkeitenWarum kontaktieren Sie nicht noch heute ein Mitglied des Platypus Technologies Teams?