电化学中的镀金硅晶片

金涂层表面在各种生化现象的精确成像中发挥着越来越重要的作用。金表面具有许多独特的特性，是原子尺度观测的理想材料，包括在红外（IR）区域的近全反射（>99%）和具有生物活性的有用吸附特性。事实证明，这在各种形式的红外光谱分析中至关重要，在这种分析中，镀金玻璃被用作相关生物分子的基底。但玻璃和云母并不是显微镜级金薄膜的唯一基底。

在 Platypus Technologies，我们设计了金涂层硅晶片，利用基底和涂层的独特导电性，实现先进的电化学实验。

描绘镀金硅晶片的轮廓

硅晶片通常是集成芯片（IC）和硬盘驱动器（HDD）等微电子设备的底层表面。这是因为硅具有独特的半导体特性，这些特性是硅固有的，并由特定化学掺杂剂的存在所决定。通过调节这些电学特性，硅晶片可被设计成具有特定的电荷携带能力，并可用作电化学阻抗光谱（EIS）等广泛应用的电极。

什么是电化学阻抗能谱？

EIS 是最复杂的电化学研究形式之一，可提供对电子转移电阻和表面灵敏度等复杂现象的详细了解。其方法是在外加电压下将分析物固定在半导体表面，然后测量电流响应。有时，硅晶片必须使用辅助界面材料进行功能化，才能用于 EIS。超薄金涂层具有优异的平面性和有用的电子特性，是电化学硅基片的首选解决方案。  

Platypus Technologies 镀金硅晶片已被用于利用 EIS 研究各种关键反应机制和电化学现象。其中包括作为聚酰胺薄膜盐渗透性函数的海水淡化膜的性能。聚酰胺薄膜具有埃级尺度的形貌均匀性和出色的表面纯度，因此可以根据厚度和溶液浓度确定聚酰胺薄膜的不同电阻，从而更深入地了解渗透膜的海水淡化性能。 

鸭嘴兽科技公司的镀金硅晶片

Platypus Technologies 已开发出一套先进的工作流程，用于开发电化学和显微镜用定制金涂层硅晶片。我们的所有基片都是基于电子束物理气相沉积高纯度金靶材，通过中间钛粘附层促进金薄膜与底层基片之间的高度粘附。

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