Goldbeschichtete Silizium-Wafer: Eigenschaften und Anwendungen

Seit den 1960er Jahren hat die Siliziumtechnologie die Art und Weise revolutioniert, wie wir über elektronische Geräte und digitale Kommunikation denken. Goldbeschichtete Siliziumwafer sind ein weiterer Schritt auf diesem exponentiellen Weg der Innovation in der Halbleitertechnologie. Sie kombinieren die inhärenten elektrischen Eigenschaften von Silizium mit den einzigartigen optischen und physikalisch-chemischen Eigenschaften von Gold. Wenn der Verbundwerkstoff mit absoluter Präzision hergestellt wird, können goldbeschichtete Siliziumwafer in kritischen nanophotonischen Anwendungen eingesetzt werden.

Bei Platypus Tech entwickeln und liefern wir kundenspezifische goldbeschichtete Siliziumwafer, die auf jahrelanger Erfahrung in der Oberflächenwissenschaft basieren. Wir bieten ein Kernsortiment an Siliziumchips und Wafern, die mit hochreinem Gold beschichtet sind und routinemäßig in der Elektrochemie, Mikroskopie und Spektroskopie eingesetzt werden.

Goldbeschichtete Silizium-Wafer: Eigenschaften und Merkmale

Wie bereits erwähnt, bieten wir in erster Linie goldbeschichtetes Silizium in zwei Formaten an, aber wir werden uns in diesem Artikel ausdrücklich auf unsere Wafer konzentrieren.

Unsere goldbeschichteten Siliziumwafer werden in einer Reinraumumgebung der Klasse 10.000 unter Verwendung von Vorprodukten qualitätsgesicherter Lieferanten hergestellt. Wir verwenden ausschließlich 100-mm-Siliziumscheiben in Testqualität als Substrate mit einer dünnen Titanklebeschicht auf der Oberfläche. Diese Klebeschicht ist in der Regel nicht dicker als 5 Nanometer (nm) und steht in einem ungefähren Verhältnis von 20:1 zur Dicke der Golddünnschicht.

Anwendungen von goldbeschichteten Siliziumwafern

Wie bei unseren goldbeschichteten Glasprodukten ist einer der Hauptvorteile unserer Siliziumsubstrate ihre Ebenheit. Wir können unsere goldbeschichteten Wafer mit einer herausragenden Ebenheit entwickeln, die oft bis in den Angström-Bereich reicht. Dies macht sie zum idealen Substrat für die Erhöhung der Auflösung und Empfindlichkeit bei Bildgebungsanwendungen im Nanobereich, wie z. B. bei der Einzelmolekül-Infrarotspektroskopie. Das hohe Reflexionsvermögen von Gold für Strahlung im Infrarotbereich des elektromagnetischen Spektrums macht es zu einem äußerst geeigneten Material für die Auflösung von extrem kleinen Analyten unter komplexen Testparametern.

Die Funktionalitäten unserer goldbeschichteten Siliziumwafer gehen bei elektrochemischen Untersuchungen noch weiter, da das beschichtete Substrat als Hochleistungselektrode dienen kann. Chemiker können die Reaktionskinetik in Abhängigkeit von der Spannung einfach und zuverlässig charakterisieren - eine Technik mit weitreichenden analytischen Anwendungsmöglichkeiten.

Goldbeschichtete Siliziumwafer von Platypus Technologies

Bei Platypus Technologies arbeiten wir nach dem Prinzip des kundenorientierten Designs, was bedeutet, dass alle unsere goldbeschichtete Silizium-Wafer werden auf der Grundlage von Sonderanfertigungen hergestellt. Wenn Sie daran interessiert sind, beschichtete Siliziumwafer für Ihre analytischen Verfahren zu verwenden, wenden Sie sich noch heute an ein Mitglied unseres Teams, um Folgendes zu besprechen Partnerschaftsmöglichkeiten mit uns?