4 种不同的光刻技术

平版印刷是一种将二维图案转移到平面上的技术。根据所需的结果，可以使用多种光刻方法。本博文将介绍四种不同类型的光刻技术及其应用。 

不同类型的光刻技术

当图案需要沉积时，光刻技术是一种利用紫外线将几何图案转移到薄膜或基底上的工艺。具体做法是在一块材料上旋转一层光刻胶，然后将光刻胶暴露在紫外线下。在光刻胶曝光之前，会在基底上放置一个掩膜，以阻止某些区域被光照到。最后，在水性溶剂的帮助下，去除未加工区域，几何图案就被消除了。制作图案薄膜的主要原因之一是为了保护基底，但也可能有其他原因。   

电子束光刻技术

电子束光刻（e-beam lithography 或 EBL）是在需要极高分辨率或独特设计的基底表面上转移图案。电子束光刻是一种速度较慢的光刻工艺，成本较高，但能获得高标准的效果。 

离子束光刻技术

离子束光刻（聚焦离子束光刻或 IBL）是一种利用聚焦离子束在基底表面形成微小纳米结构的工艺。这种工艺用于制造电路板等物品，通常用于半导体行业。  

光学平版印刷（光刻技术）

光学光刻，又称光刻，是一种微细加工工艺，包括在进行其他加工（沉积或蚀刻）之前，选择性地去除薄膜的一部分。在 Playtpus Technologies，我们的 光刻工艺 可使用金属掀离或湿法蚀刻最终完成。上述每种方法都可用于将光刻胶图案转移到薄膜上。 

• 金属剥离是将薄膜沉积在图案光刻胶上，然后将光刻胶溶解，使图案显现出来的过程。
• 湿法蚀刻是在金属膜上沉积光刻胶。用特定的液体化学品去除部分金属，然后用溶剂去除光刻胶，以显示图案。

X 射线光刻技术

X 射线光刻 (XRL) 常用于制造半导体器件。它用于去除光刻胶薄膜的特定部分。X 射线用于将几何图案转移到基底上 

鸭嘴兽技术和光刻服务

鸭嘴兽技术公司提供各种 光刻服务 用于多种应用，包括生物传感器、化学传感器、电极和微机电设备。此外，如果您需要，鸭嘴兽科技公司还提供用于光刻工艺的阴性和阳性光刻胶。

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