4 tipos de litografía

La litografía es una técnica utilizada para transferir un patrón bidimensional a una superficie plana. Dependiendo del resultado deseado, se pueden utilizar muchos métodos litográficos. Esta entrada del blog tratará sobre los cuatro tipos diferentes de técnicas litográficas y sus aplicaciones. 

Los distintos tipos de litografía

Cuando hay que depositar patrones, la litografía es un proceso que utiliza luz ultravioleta para transferir un patrón geométrico a una película fina o a un sustrato. Para ello, se hace girar una capa de fotorresistencia sobre una pieza de material y, a continuación, se expone la fotorresistencia a la luz ultravioleta. Antes de exponer la fotorresistencia, se coloca una máscara sobre el sustrato para impedir que la luz ilumine determinadas zonas. Finalmente, el patrón geométrico se alivia eliminando las regiones no procesadas con la ayuda de un disolvente acuoso. Una de las principales razones para crear una película con patrón es proteger un sustrato, pero hay otros motivos posibles.   

Litografía por haz de electrones

La litografía por haz de electrones (e-beam lithography o EBL) transfiere un patrón sobre la superficie de un sustrato cuando se requiere una resolución extremadamente alta o diseños únicos. Es uno de los procesos litográficos más lentos y más caros, pero el resultado es de gran calidad. 

Litografía por haz de iones

La litografía por haz de iones (litografía por haz de iones focalizado o IBL) es un proceso que utiliza un haz de iones focalizado para crear minúsculas nanoestructuras en la superficie de un sustrato. Se utiliza para crear elementos como placas de circuitos y es habitual en la industria de los semiconductores.  

Litografía óptica (fotolitografía)

La litografía óptica, también conocida como fotolitografía, es un proceso de microfabricación que consiste en eliminar selectivamente partes de una película fina antes de emprender otras acciones de procesamiento (deposición o grabado). En Playtpus Technologies, nuestros proceso fotolitográfico puede finalizarse utilizando el despegue metálico o el grabado húmedo. Cada uno de estos métodos puede utilizarse para transferir el patrón fotorresistente a una película fina. 

• El levantamiento del metal es un proceso en el que la película fina se deposita sobre la fotorresistencia estampada y, a continuación, se disuelve la fotorresistencia para poder revelar el patrón.
• El grabado húmedo consiste en depositar la capa fotorresistente sobre la película metálica. Se eliminan partes del metal con productos químicos líquidos específicos y, a continuación, se retira la fotorresistencia con un disolvente para revelar el patrón.

Litografía de rayos X

La litografía por rayos X (XRL) se utiliza con frecuencia para fabricar dispositivos semiconductores. Se utiliza para eliminar partes específicas de una fina película fotorresistente. Los rayos X se utilizan para transferir un patrón geométrico a un sustrato. 

Tecnologías y servicios litográficos Platypus

Platypus Technologies ofrece varios servicios de fotolitografía para varias aplicaciones, incluyendo biosensores, sensores químicos, electrodos y dispositivos MEMs. Además, si lo necesita, Platypus Technologies suministra fotorresistencias negativas y positivas para procesos de fotolitografía.

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