4 Différents types de lithographie

La lithographie est une technique utilisée pour transférer un motif bidimensionnel sur une surface plane. De nombreuses méthodes de lithographie peuvent être utilisées en fonction du résultat recherché. Cet article de blog traite des quatre différents types de techniques de lithographie et de leurs applications. 

Les différents types de lithographie

Lorsque des motifs doivent être déposés, la lithographie est un processus qui utilise la lumière UV pour transférer un motif géométrique sur un film mince ou un substrat. Pour ce faire, on étale une couche de résine photosensible sur une pièce de matériau, puis on expose la résine photosensible à la lumière ultraviolette. Avant l'exposition de la résine photosensible, un masque est placé sur le substrat afin d'empêcher certaines zones d'être éclairées par la lumière. Le motif géométrique est finalement éliminé en retirant les zones non traitées à l'aide d'un solvant aqueux. L'une des principales raisons de créer un film à motifs est de protéger un substrat, mais d'autres raisons sont possibles.   

Lithographie par faisceau d'électrons

La lithographie par faisceau d'électrons (e-beam lithography ou EBL) permet de transférer un motif sur la surface d'un substrat lorsqu'une résolution extrêmement élevée ou des dessins uniques sont nécessaires. C'est l'un des procédés de lithographie les plus lents et les plus coûteux, mais le résultat est d'une grande qualité. 

Lithographie par faisceau d'ions

La lithographie par faisceau d'ions (lithographie par faisceau d'ions focalisé ou IBL) est un procédé qui utilise un faisceau d'ions focalisé pour créer de minuscules nanostructures à la surface d'un substrat. Ce procédé est utilisé pour créer des éléments tels que des cartes de circuits imprimés et est couramment utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs.  

Lithographie optique (Photolithographie)

La lithographie optique, également connue sous le nom de photolithographie, est un processus de microfabrication qui consiste à enlever sélectivement des parties d'un film mince avant d'entreprendre d'autres actions de traitement (dépôt ou gravure). Chez Playtpus Technologies, notre procédé de photolithographie peut être finalisé en utilisant la technique du métal lift-off ou de la gravure humide. Chacune de ces méthodes peut être utilisée pour transférer le motif de la résine photosensible sur un film mince. 

• Le métal lift-off est un processus au cours duquel le film mince est déposé sur la résine photosensible, puis la résine photosensible est dissoute afin que le motif puisse être révélé.
• La gravure humide consiste à déposer la résine photosensible sur le film métallique. Des parties du métal sont enlevées à l'aide de produits chimiques liquides spécifiques, puis la résine photosensible est enlevée à l'aide d'un solvant pour révéler le motif.

Lithographie aux rayons X

La lithographie par rayons X (XRL) est fréquemment utilisée pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs. Elle permet d'enlever des parties spécifiques d'un film mince de résine photosensible. Les rayons X sont utilisés pour transférer un motif géométrique sur un substrat. 

Technologies et services de lithographie Platypus

Platypus Technologies fournit divers services de photolithographie pour plusieurs applications, y compris les biocapteurs, les capteurs chimiques, les électrodes et les dispositifs MEM. En outre, si vous le souhaitez, Platypus Technologies fournit des résines photosensibles négatives et positives pour les processus de photolithographie.

N'hésitez pas à nous contacter dès aujourd'hui pour obtenir plus d'informations sur nos services de lithographie ou sur d'autres produits.