4 Verschiedene Arten der Lithografie

Die Lithografie ist ein Verfahren zur Übertragung eines zweidimensionalen Musters auf eine ebene Fläche. Je nach gewünschtem Ergebnis können viele Lithografieverfahren eingesetzt werden. In diesem Blogbeitrag werden die vier verschiedenen Arten von Lithografietechniken und ihre Anwendungen behandelt. 

Die verschiedenen Arten der Lithografie

Wenn Muster aufgebracht werden müssen, ist die Lithografie ein Verfahren, bei dem UV-Licht verwendet wird, um ein geometrisches Muster auf eine dünne Schicht oder ein Substrat zu übertragen. Dazu wird eine Schicht Fotoresist auf ein Stück Material geschleudert und dann mit ultraviolettem Licht bestrahlt. Bevor der Fotolack belichtet wird, wird eine Maske auf das Substrat gelegt, um zu verhindern, dass bestimmte Bereiche durch das Licht beleuchtet werden. Das geometrische Muster wird schließlich durch Entfernen der unbearbeiteten Bereiche mit Hilfe eines wässrigen Lösungsmittels freigelegt. Einer der Hauptgründe für die Herstellung eines strukturierten Films ist der Schutz eines Substrats, aber auch andere Gründe sind denkbar.   

Elektronenstrahl-Lithographie

Bei der Elektronenstrahllithografie (E-Beam-Lithografie oder EBL) wird ein Muster auf eine Substratoberfläche übertragen, wenn eine extrem hohe Auflösung oder einzigartige Designs erforderlich sind. Es handelt sich um eines der langsameren Lithografieverfahren und ist teurer, aber das Ergebnis ist von hoher Qualität. 

Ionenstrahl-Lithographie

Die Ionenstrahllithografie (fokussierte Ionenstrahllithografie oder IBL) ist ein Verfahren, bei dem ein fokussierter Ionenstrahl verwendet wird, um winzige Nanostrukturen auf der Oberfläche eines Substrats zu erzeugen. Dieses Verfahren wird zur Herstellung von Gegenständen wie z. B. Leiterplatten verwendet und wird häufig in der Halbleiterindustrie eingesetzt.  

Optische Lithographie (Fotolithographie)

Die optische Lithografie, auch Fotolithografie genannt, ist ein Mikroherstellungsprozess, bei dem Teile einer dünnen Schicht selektiv entfernt werden, bevor andere Verarbeitungsschritte (Abscheidung oder Ätzen) durchgeführt werden. Bei Playtpus Technologies, unser Fotolithografie-Verfahren kann durch Metall-Lift-off oder Nassätzung fertiggestellt werden. Jedes dieser Verfahren kann zur Übertragung des Fotolackmusters auf eine Dünnschicht verwendet werden. 

• Beim Metall-Lift-Off-Verfahren wird die Dünnschicht auf den strukturierten Fotolack aufgebracht und dann der Fotolack aufgelöst, so dass die Struktur freigelegt werden kann.
• Beim Nassätzen wird der Fotoresist auf die Metallschicht aufgebracht. Teile des Metalls werden mit speziellen flüssigen Chemikalien entfernt, und dann wird der Fotolack mit einem Lösungsmittel entfernt, um das Muster sichtbar zu machen.

Röntgenlithographie

Die Röntgenlithografie (XRL) wird häufig zur Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt. Sie dient dazu, bestimmte Teile einer dünnen Fotolackschicht zu entfernen. Die Röntgenstrahlen werden verwendet, um ein geometrisches Muster auf ein Substrat zu übertragen 

Platypus-Technologien und Lithografie-Dienstleistungen

Platypus Technologies bietet verschiedene Photolithographie-Dienstleistungen für verschiedene Anwendungen, darunter Biosensoren, chemische Sensoren, Elektroden und MEM-Bauteile. Darüber hinaus liefert Platypus Technologies bei Bedarf Negativ- und Positiv-Fotoresists für Fotolithografieverfahren.

Nehmen Sie noch heute Kontakt mit uns auf, wenn Sie weitere Informationen über unsere Lithografie-Dienstleistungen oder andere Produkte wünschen.