Ventajas y desventajas de la fotolitografía

La fotolitografía, también conocida como litografía óptica, es una técnica de microfabricación que utiliza la luz para producir películas finas con patrones precisos sobre sustratos como obleas de silicio. Estas películas con patrones suelen proteger áreas seleccionadas del sustrato subyacente durante el procesamiento posterior, como el grabado o la deposición de metales.

¿Qué es la fotolitografía?

La fotolitografía consta de varios pasos. En primer lugar, el sustrato se recubierto con una capa fotorresistenteuna capa fina y plana de una sustancia sensible a la luz. A continuación, la fotorresistencia se expuesto a un patrón preciso de luz intensa (normalmente ultravioleta). Para ello se suele utilizar una "fotomáscara" que bloquea algunas partes de la luz y deja pasar otras, aunque en algunas aplicaciones el patrón se proyecta directamente sobre la fotorresistencia. La exposición hace que partes de la fotorresistencia experimenten un cambio químico.

El último paso del proceso fotolitográfico es el revelado. El fotorresistente se expone a una solución "reveladora" especial que disuelve preferentemente las partes del fotorresistente en función de su exposición a la luz intensa. Una fotorresistencia "positiva" se vuelve soluble cuando se expone, haciendo que las partes expuestas se disuelvan durante el proceso de revelado. Con una fotorresistencia "negativa", las partes no expuestas permanecen solubles mientras que las expuestas se vuelven insolubles.

La fotolitografía suele ir seguida de un tratamiento adicional. Por ejemplo, grabado químico húmedo puede utilizarse para eliminar las capas de sustrato que no están protegidas por la fotorresistencia estampada. En despegue metálicoPara producir una película metálica estampada, el material fotorresistente puede recubrirse con una fina capa metálica antes del revelado.

El procesamiento fotolitográfico comienza con el diseño CAD para fabricar un producto acabado.

Aplicaciones de la fotolitografía

La principal aplicación de la fotolitografía es la producción de dispositivos semiconductores mediante el estampado de obleas de silicio. En estas aplicaciones, la fotolitografía va seguida de procesos de grabado, normalmente por plasma, en los que la capa fotorresistente permite la eliminación selectiva de partes del sustrato.

Otras aplicaciones de la fotolitografía son los electrodos de oro estampados para su uso en biodetección, los filtros de interferencia altamente selectivos para óptica y las matrices de micropocillos para aplicaciones biocientíficas. Más información aplicaciones de la fotolitografía en microfabricación aquí.

Ventajas de la fotolitografía

La fotolitografía puede crear patrones con características extremadamente pequeñas -de hasta unas pocas decenas de nanómetros- al tiempo que permite un control increíblemente preciso de la geometría de las características. Además, la fotolitografía es relativamente rápida y permite crear patrones en toda una oblea de silicio con un coste relativamente bajo.

La fotolitografía también es versátil: se utiliza habitualmente para crear patrones de diversos materiales, como vidrio, silicio e incluso sustratos flexibles.

Desventajas de la fotolitografía

Aunque la fotolitografía es extremadamente útil en aplicaciones de investigación e ingeniería, tiene algunas limitaciones. Desde un punto de vista técnico, sólo hay unos pocos retos: la fotolitografía sólo es adecuada para sustratos perfectamente planos, y está fundamentalmente limitada por la longitud de onda de la luz utilizada (aunque hay esfuerzos en curso para superar el "límite de difracción" de la fotolitografía para aplicaciones de semiconductores de próxima generación).

Los principales inconvenientes de la fotolitografía son más prácticos que tecnológicos. En primer lugar, los equipos de fotolitografía son extremadamente caros, una característica que comparten prácticamente todos los equipos utilizados en la fabricación de semiconductores. Además, la fotolitografía sólo puede realizarse en un entorno libre de partículas en suspensión en el aire o contaminantes químicos, lo que significa que la fotolitografía debe realizarse en una sala limpia.

Servicios de fotolitografía de Platypus Technologies

Es comprensible que la inversión en salas blancas y equipos de fotolitografía no sea una opción práctica para todos los laboratorios o fabricantes. Por eso ofrecemos una amplia gama de servicios de fotolitografía para la fabricación de varios tipos de superficies estampadas.

El laboratorio de fotolitografía de Platypus Technologies está equipado con un sistema de exposición altamente colimado de 365 nm capaz de obtener una resolución mínima de 5 µm en sustratos circulares de hasta 6" de diámetro y sustratos cuadrados de hasta 4" x 4".

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