SU-8 光刻技术快速指南
SU-8 光刻技术是一种广泛使用的微细加工技术，它使用一种名为 SU-8 的光敏阴性环氧树脂。SU-8 用于在各种应用的基底表面、微结构和涂层上制作微米和纳米级图案。它具有稳定的化学、机械和热特性，因此很受欢迎。SU-8 光刻技术在制造微流控和微机电系统部件方面发挥着重要作用。本博文将介绍 SU-8 光刻技术的程序、应用和仪器。
SU-8 光刻技术所需组件
要准确地进行 SU-8 光刻，必须使用许多组件。这些组件包括光刻胶（SU-8）、基底、溶剂、热板、旋转器、光罩校准器和紫外线光源。
SU-8
SU-8 光刻胶是这一工艺的主要组成部分，因为它是创建所需图案所需的材料。SU-8 是一种阴性环氧基光刻胶，具有高纵横比和热稳定性。在紫外线照射下，SU-8 会发生化学反应，从而在基底上留下所需的图案。
基板
光刻胶（如 SU-8）被分配到基底上。基底是由玻璃、聚合物或硅制成的基底材料。光刻技术中使用的基底取决于最终产品的预期应用和所需性能。
溶剂
根据所用光刻胶的类型选择溶剂，用于去除基底表面多余的光刻胶。一旦多余的光刻胶被去除，所需的图案就会显露出来。
面罩校准器
光刻胶对准器用于将光刻胶与所需图案对准。一旦两者对齐，光罩就会暴露光刻胶的选定部分，从而创建出高度精确的图案。
紫外线光源
如果没有紫外线光源，就无法进行光刻工艺。如前所述，光源通过光罩对准器照射光刻胶并产生化学反应。化学反应产生了所需的图案。
SU-8 光刻程序
SU-8 光刻工艺涉及多个步骤，包括基底制备、光刻胶涂层、紫外光照射、基底显影和光刻胶硬烘烤。
在使用光刻技术之前，必须用丙酮、甲醇或异丙醇等溶剂对基底进行清洗。清洗后，使用旋转器将 SU-8 分散到基底表面（此过程称为旋涂），然后对光刻胶进行软烘烤，以便溶剂蒸发。接下来的阶段是通过掩膜将光刻胶暴露在紫外线下，以形成所需的图案，然后用溶剂去除未暴露的区域。工艺的最后阶段是硬烤光刻胶，使其永久固化。
概括地说，光刻程序包括以下步骤：
- 基底清洁
- 光阻旋涂
- 软烤
- 紫外线照射
- 清除未暴露区域/创建图案
- 硬质烘焙和固化
鸭嘴兽技术公司和 SU-8 光刻机
鸭嘴兽技术公司提供一系列 光刻服务 用于制造图案化表面。在这篇博文中，我们提到光刻胶是光刻工艺的关键特征。Platypus Technologies 库存有阴性和阳性光刻胶，包括用于开发生物传感器、电极、MEMs 器件、微流体、半导体器件等各种应用的 SU-8 图形晶片。
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