Guide rapide de la photolithographie SU-8

La photolithographie au SU-8 est une technique de microfabrication très répandue qui utilise un époxyde négatif photosensible appelé SU-8. Le SU-8 est utilisé pour créer des motifs à l'échelle micro et nanométrique sur la surface d'un substrat, des microstructures et des revêtements pour diverses applications. C'est un choix populaire en raison de ses caractéristiques chimiques, mécaniques et thermiques stables. La photolithographie SU-8 joue un rôle important dans la fabrication de composants de systèmes microfluidiques et microélectromécaniques. Cet article de blog examine la procédure, les applications et les instruments utilisés pour la photolithographie SU-8.

Composants nécessaires à la photolithographie SU-8

Pour que la photolithographie SU-8 soit réalisée avec précision, un certain nombre de composants doivent être utilisés. Ces composants comprennent une résine photosensible (SU-8), des substrats, des solvants, des plaques chauffantes, une tournette, un aligneur de masque et une source de lumière UV. 

SU-8 

La résine photosensible SU-8 est un élément essentiel de ce processus, car c'est le matériau nécessaire pour créer le motif requis. Le SU-8 est une résine photosensible négative à base d'époxy qui présente un rapport d'aspect élevé et une grande stabilité thermique. Lorsqu'il est soumis à la lumière UV, le SU-8 subit une réaction chimique qui permet de laisser le motif souhaité sur le substrat.

Substrats

Une résine photosensible, telle que SU-8, est appliquée sur un substrat. Un substrat est un matériau de base composé de verre, de polymères ou de silicium. Le substrat utilisé en photolithographie dépend de l'application envisagée et des propriétés souhaitées pour le produit final.

Solvants

Un solvant sera sélectionné en fonction du type de résine photosensible utilisé et servira à éliminer l'excès de résine photosensible sur la surface du substrat. Une fois que la résine photosensible indésirable est enlevée, le motif souhaité est exposé.

Aligneur de masque

Un aligneur de masque est utilisé pour aligner la résine photosensible sur le motif requis. Une fois les deux alignés, le masque expose des sections sélectionnées de la résine photosensible, ce qui permet de créer un motif très précis.

Source de lumière UV

Sans source de lumière UV, le processus de photolithographie ne serait pas possible. Comme indiqué précédemment, la source de lumière expose la résine photosensible à travers l'aligneur de masque et crée une réaction chimique. C'est cette réaction chimique qui crée le motif requis.

SU-8 Procédure de photolithographie 

Le processus de photolithographie SU-8 comporte plusieurs étapes, notamment la préparation du substrat, le revêtement de la résine photosensible, l'exposition à la lumière UV, le développement du substrat et le durcissement de la résine photosensible. 

Avant qu'un substrat puisse être utilisé en photolithographie, il doit être nettoyé avec un solvant tel que l'acétone, le méthanol ou l'alcool isopropylique. Une fois nettoyé, le SU-8 est dispersé sur la surface du substrat à l'aide d'une centrifugeuse (ce processus est appelé spin-coating), puis la résine photosensible est cuite au four pour permettre l'évaporation du solvant. Les étapes suivantes consistent à exposer la résine photosensible à la lumière UV à travers un masque pour créer le motif requis, puis à éliminer les zones non exposées à l'aide d'un solvant. La dernière étape du processus consiste à cuire la résine photosensible et à la durcir de manière permanente.

En résumé, la procédure de photolithographie comprend les étapes suivantes :

• Nettoyage du support
• Revêtement de résine photosensible par centrifugation
• Cuisson à l'étouffée
• Exposition aux UV
• Suppression des zones non exposées/création de motifs
• Cuisson au four et durcissement

Pour en savoir plus sur le processus de photolithographie, cliquez ici

Platypus Technologies et SU-8 Photolithographie

Platypus Technologies propose une gamme de services de photolithographie pour la fabrication de surfaces à motifs. Dans cet article de blog, nous avons mentionné que les résines photosensibles sont un élément clé des processus de photolithographie. Platypus Technologies stocke des résines photosensibles négatives et positives, y compris des plaquettes à motifs SU-8 pour diverses applications telles que le développement de biocapteurs, d'électrodes, de dispositifs MEM, de microfluidique, de dispositifs à semi-conducteurs et de nombreuses autres applications.

Contactez un membre de Platypus Technologies dès aujourd'hui pour en savoir plus sur la photolithographie SU-8 et sur la façon dont nous pouvons soutenir vos applications.