什么是等离子清洗？
反应气体分子形成所谓的等离子体。等离子体中的离子和电子可用于去除不需要的有机污染物。不需要的颗粒则通过真空系统去除。这种清洗程序是一种理想的灭菌过程。此外，等离子清洗无需使用昂贵的溶剂，因为基底表面可通过等离子分子内的化学反应进行清洗。
在半导体制造中使用等离子体有很多好处。首先，它提供了一种简单方便的基底清洁方法。等离子清洗是在一个带有多种气体供应和真空的密闭腔体内进行的。用户可以调整持续时间和其他参数，以实现所需的清洗周期。通过这一过程，基底的特性可以得到改善，如提高附着力、润湿性和表面能。
工作原理:
等离子体的颜色可以显示形成等离子体所使用的反应气体类型。例如，将氮气引入腔室时会产生紫色。请观看下面的视频，了解氮气和氧气的等离子处理循环：
舱内的基底正在通过紫色气体进行清洁。这种紫色等离子体正在清除表面的有机污染物。
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