利用金属掀起技术制作花纹金属表面

图案化薄膜对现代技术产生了巨大影响，虽然半导体元件通常是焦点，但金属表面在各种先进应用中也发挥了关键作用，如材料表征、生物传感器、化学传感器和微机电系统（MEMS）。

与硅加工一样，金属沉积也有多种方法。为实现高保真，金属镀膜技术通常在真空条件下进行，以避免污染物的存在。这样可以确保金属镀层横向连续，缺陷最小。然而，在制作图案化金属表面时，目标是有选择地而不是均匀地为基底镀膜。

同样，图案化金属表面涂层有多种途径，从软光刻到纳米压印。在本博客中，我们将探讨通过金属升华技术进行金属图案转移的基础知识。

什么是 Metal-Lift Off？

金属剥离是一种使用牺牲材料在表面上创建微结构的方法。光敏聚合物（称为光致抗蚀剂）通常用于传统的图案转移，利用电子束（e-beam）或紫外线光源在表面上形成待蚀刻图案的底片。金属升华也使用类似的方法，只是工艺是加法而不是减法。

通过升华技术制作图案化金属表面的基本原理是将光刻胶选择性地涂在基底上。然后使用物理气相沉积（PVD）等技术进行金属化，覆盖基底和光刻胶。然后使用有机溶剂作为剥离介质，去除光刻胶以及涂覆在其表面的任何金属颗粒，在新涂覆的表面留下光刻胶掩模的印记。

金属移除技术的优点

与干法蚀刻技术相比，金属掀离法是在更短时间内制作出图案化金属表面的理想方法，而且成本更低。此外，干蚀刻方法会影响基底层的结构特性，而金属升降技术不会。 在使用金等材料制作图案化金属表面时，它也是湿化学蚀刻的重要替代方法，因为金在潮湿条件下与抗蚀材料的附着力通常很差。

金属提升技术的缺点

金属升华的主要缺点是需要复杂的模板才能成功升华。根据沉积方法的不同，抗蚀层侧壁涂层还可能导致抗蚀层去除后产生栅栏状结构。这是溅射镀膜中常见的副作用。

利用鸭嘴兽技术制作花纹金属表面

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