Plaque d'oxyde thermique

$50.00

Plaque de silicium (4″-dia.) avec oxyde thermique humide (285-nm)

 

En stock

UGS : SW.100MM.WTO Catégorie :

Description

  • Oxyde thermique humide sur les deux faces
  • Épaisseur de l'oxyde : 285 nm +/- 5%
  • Type : P
  • Dopant : Bore
  • Polissage : simple face (SSP)
  • Grade : Prime
  • Dimensions : Diamètre de 100 mm
  • Épaisseur : 525 +/- 25 μm
  • Résistivité : ≤ 0,005 ohm-cm
  • Orientation :
  • Plats SEMI : 2