用 HMDS 调节光刻胶的附着力:深入研究光刻技术

在半导体制造和微细加工领域,光刻技术是一种在基底表面形成复杂图案的基本技术。光刻工艺常用于电子、微流体和传感器领域,并在最终应用过程中形成保护层,防止其他制造工艺和机械磨损。要制作这些图案,需要在基底上涂抹掩膜和光刻胶,并对其进行曝光。曝光后,使用化学溶液对光阻剂进行显影,未曝光部分的光阻剂被溶解,从而形成所需的图案。

如何在表面科学中使用 HMDS

六甲基二硅氮烷(HMDS)是一种无色易燃液体,具有独特的化学结构。 在表面科学中,它经常被用作处理硅晶片表面的底剂,使其更适合与光刻胶粘合。在表面涂层应用中,使用 HMDS 作为前处理和后处理方法也很常见。在这篇博文中,我们将探讨 HMDS 在表面科学中的应用及其益处。

利用氟化硅烷对微流控表面进行功能化处理

近年来,微流体技术已成为一种强大的工具,特别是在生物技术、化学和材料科学领域。它涉及在纳米级通道内对微量流体(通常只有几皮升)的精心控制。虽然规模较小,但微流控设备的潜在应用领域却非常广泛。然而,与大多数微米级和纳米级制造一样,微流体设备的工程设计也是一项具有挑战性的工作。 

红外光谱中的自组装单层膜

红外光谱法,通常是红外反射吸收光谱法(IRRAS),是表征自组装单层等超薄层的常用方法。当红外线穿过样品时,部分辐射被吸收,部分被透过。红外探测器获取这些特征信号,生成代表样品分子指纹的光谱。这凸显了红外光谱学的内在价值;它可用于根据吸收/透射光谱特征来阐明分子组成。