Visión general de los procesos de fabricación de electrodos interdigitados

Los electrodos interdigitados (IDE) se fabrican mediante el proceso de combinar dos matrices de electrodos direccionables por separado, de forma que la estructura de electrodos resultante tiene forma de cremallera o de peine.

Utilizados en una amplia gama de aplicaciones de sensores electroquímicos, los transductores interdigitales (IDT) construidos a partir de IDE son los preferidos por la relativa facilidad y el bajo coste del proceso de fabricación, así como por la alta sensibilidad de los sensores especializados construidos en torno a componentes IDE.

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La ventaja de las configuraciones de electrodos interdigitados

La forma de peine de la configuración de electrodos interdigitados permite que los electrodos se adhieran entre sí, o esencialmente se infundan juntos. Este proceso de infusión minimiza la distancia entre los electrodos en comparación con arquitecturas de microlitografía de película fina más simples y convencionales.

El resultado final es un sensor más preciso, capaz y fiable. La reducción de la distancia entre electrodos permite una difusión más rápida de los iones, lo que se traduce en una mayor velocidad de transmisión de datos, densidad de potencia y rendimiento.

Los procesos de fabricación de los transductores interdigitales

Existen tres procesos principales de microfabricación utilizados en la fabricación de precisión de estructuras de electrodos interdigitados.

Grabado láser:

Con los IDT grabados con láser, se diseña digitalmente una fotomáscara precisa y se escribe en el sustrato mediante la eliminación por láser del material (normalmente cromo) depositado en la superficie.

Grabado iónico reactivo:

El grabado iónico reactivo (RIE) es un método de grabado en seco que utiliza un plasma químicamente reactivo para eliminar cuidadosamente el material depositado en el sustrato subyacente. El plasma se genera electromagnéticamente mediante potentes frecuencias de RF que obligan a los iones a "atacar" y eliminar el material de la superficie.

Plasma acoplado inductivamente:

El plasma acoplado inductivamente (ICP) se genera a través de una potente inducción electromagnética, dando lugar a una fuente de plasma de altísima densidad y libre de contaminación. A continuación, el plasma IC se utiliza para grabar con precisión la superficie del sustrato y producir una arquitectura interdigitada.

Electrodos estampados fabricados a medida para diversas aplicaciones

La experiencia de Platypus Technologies en la fabricación de transductores de electrodos interdigitados se extiende a una amplia gama de aplicaciones de sensores, entre las que se incluyen:

• Biosensores MEMS (bioMEMS)
• Sensores químicos
• Biosensores
• Dispositivos Lab-on-a-chip
• Transistores de efecto campo

Si su aplicación requiere una solución de sensor más especializada, Contacto para hablar de cómo Platypus Technologies puede desarrollar sus microelectrodos personalizados. Nuestra moderna planta de producción tiene capacidad para recubrir y estampar diversos metales (Au, Ag, Pt, Ni, Ti, Al) sobre silicio, vidrio o sustratos flexibles. Consulte nuestra Página de servicios para más información.