フォトリソグラフィ微細加工への応用

フォトリソグラフィは、現代のエレクトロニクス、センサー、マイクロ流体工学の基板パターニングに用いられる重要な微細加工技術である。フォトリソグラフィーは、ウェハーの界面をフォトレジストと呼ばれる感光性ポリマーでコーティングする精密な表面加工技術である。その後、コーティングされたウェハは、マスクによって選択的に減衰される光にさらされ、化学的、物理的、光学的にエッチングされる潜像が残され、ウェハ表面に恒久的な微細構造パターンが形成される。フォトリソグラフィは、金属蒸着やエッチング技術と組み合わせることで、光学、化学・バイオセンサー、マイクロ流体デバイス用の微細構造を作製するための汎用性の高い方法である。

フォトリソグラフィを理解する

ムーアの法則によれば、高密度集積回路（IC）のオンチップ・トランジスタ数は2年ごとに倍増する。現在、フォトリソグラフィによって、メーカーは1マイクロメートル（μm）という低解像度のICを開発できることを考えると、プリンテッドエレクトロニクスの開発は、当然、速度を落とすか、ナノスケールの処理まで向上させる必要がある。

ナノテクノロジーは、微細加工における次の大きなフロンティアのひとつであるが、技術者たちは、マイクロスケールで可能なことをまだ表面しか見ていない。フォトリソグラフィは、リソグラフィレターを押し進める上で重要な役割を担っており、具体的には、紫外線（UV）波長（通常は365nm）を用いたi線露光などの技術が挙げられる。さらに、フォトリソグラフィー・サービス・プロバイダーは、マイクロスケールの表面製造の前提条件である、難易度の高いエポキシ樹脂や金属リフトオフ・レジストに関する専門知識を提供できるようになってきている。

これにより、エンジニアや科学者に新しいレベルの表面分解能と精度を提供するフォトリソグラフィ・ソリューションが実現します。

フォトリソグラフィの応用

パターン金電極

フォトリソグラフィは、パターン化された金電極の生成において重要な役割を担っている。この電極は、高度な分析アプリケーションやセンサー開発のための高性能な電気素子を生み出すために、高い局所的均一性と横方向の精度、さらに金固有の導電性の利点を活かしている。パターニングされた金電極の主要な開発分野には、高度な微小電気機械システム（MEMS）、すなわちバイオMEMSで構成されたユニークなバイオセンサーが含まれる。

光学フィルター

干渉フィルターは、フォトリソグラフィーのワークフロー、特に安定した単色光源を必要とするアフターマーケットのi線システムにおいて、確実に解像するために極めて重要な要素です。しかし、フォトリソグラフィは、選択的で高解像度の表面パターンを持つOEMフィルターの生成においても、ますます重要な役割を果たしています。さらに、光学顕微鏡や表面プラズモン共鳴（SPR）のような高度なイメージング技術で使用するために、原始的な金基板が準備されることも多い。

マイクロウェルとマイクロピラーアレイ

生物学的イメージングや細胞イメージングでは、パターン化された基板で構成されるマイクロウェルアレイの利用が増加しており、ライフサイエンス応用のための様々な機能性を可能にしている。フォトリソグラフィによって生成されたハニカムアレイは、例えば、粒子分離のための液体膜の安定化に有用である。

プラティパス・テクノロジーズのフォトリソグラフィーサービス

プラティパステックでは、基板パターニングのような高度な並列ワークフローに関連するコストと時間の負担を理解しています。しかし、高精度のカスタムサーフェスの必要性から、エンドユーザーには、容易に入手可能なソリューションの能力を超えるソリューションを見つける責任がしばしば課せられます。そのため私たちは、真にカスタマイズ可能な フォトリソサービス 研究開発(R&D)の様々な分野におけるユーザーのニーズにお応えします。もっと詳しく知りたいですか？私たちの パートナーシップ 今日