ナノテクノロジーにおける金コート基板と表面

ナノテクノロジーは、サブマイクロスケールの寸法を持つ材料や構造に焦点を当てた研究開発（R&D）の分野として急速に発展している。ナノスケールは、人間の目に見えるものより数桁小さいため、視覚化するのは難しい。

ナノメートル(nm)は、10億分の1メートル(10^-9)であり、ナノスケールはおおよそ1～100nmのあらゆる構造を包含する。複合顕微鏡でさえ、200ナノメートル（nm）以下の大きさの特徴を解像することはできない。ナノテクノロジーの範囲内で研究を行ったり製品を開発したりするには、絶対的な精度と高純度の材料が必要である。金でコーティングされた基板と表面は、この両方の要件を満たします。プラティパス・テクノロジーズでは、特定の分析技術による材料（ナノ、マイクロ、マクロスケール）の分析と特性評価のために、金コーティング製品を提供しています。

金メッキ基板はどのようにして作られるのか？ 電子ビーム物理蒸着法（EBPVD）は、ナノテクノロジーに不可欠なコンポーネントを製造するために使用される多くのツールのひとつである。様々な用途の機能性基板上に高純度の薄膜を生成するために日常的に使用されています。プラティパス・テクノロジーズでは、高純度の金コート基板を生成するために、この方法を使用しています。

このプロセスでは、99.999%の純金で構成されたターゲット陽極と、雲母ガラスやシリコンなどの基板を使用する。タングステンをベースとする電子ビームがターゲットに照射され、固体の金を気相に変換する。その結果、通常10nm以上の非常に薄い金層でコーティングされた機能性基板が得られる。

金メッキ表面の用途

金は容易に官能基化できる材料で、本質的に酸化に強く、化学的に不活性である。また、電気伝導性にも優れています。プラティパス・テクノロジーズでは、製品開発から材料科学に至るまで、様々な最終用途向けにEBPVD金コートガラスとシリコンウエハーを開発しています。当社の顕微鏡スライドとカバーリップは、ライフサイエンス研究と反射率分析に最適です。一方、当社のシリコンウェハーとテンプレート剥離金チップは、原子間力顕微鏡（AFM）や走査型電子顕微鏡（SEM）からセンサー開発まで、さまざまな研究用途に使用されています。

金でコーティングされた基板を使うのは、研究対象の材料について何らかの特性評価を行う必要があるからである。キャラクタリゼーションの種類は具体的な問題によって異なるが、一般的には以下の技術のいずれかを用いる：

顕微鏡検査：

• 原子間力顕微鏡
• 走査型トンネル顕微鏡
• 走査型電子顕微鏡
• 蛍光顕微鏡

分光法：

• 赤外（IR）分光法
• ラマン分光法
• 表面プラズモン共鳴（SPR）

電気化学

• サイクリック・ボルタメトリー
• 電気化学インピーダンス分光法

金でコーティングされた製品はそれぞれ異なる技術に対応している。例えば、50nmの金膜を形成したガラスはSPRに使用されます。具体的な用途については、各製品のページをご覧ください。

プラティパステック・ゴールドフィルムの利点

他のメーカーは、熱蒸着やスパッタリングによって金コーティングを開発していますが、私たちはこの分野の専門知識と精度が高いEBPVDに依存しています。蒸着前に基板を酸素プラズマ洗浄することで、最大限の密着性を確保し、完成品の清浄度を促進します。また、チタン密着層を付与することで、金薄膜と基板間の結合を最大限に確保し、均一性を促進することができます。

プラティパス・テクノロジーズ・チームのメンバーと、私たちの製品についてお話したい方は、以下のフォームにご記入ください。 金メッキ基板単に お問い合わせ 今日