En el mundo actual de rápidos avances tecnológicos, la precisión es importante, especialmente cuando se trata de sensores y componentes electrónicos. En Platypus Technologies comprendemos esta necesidad de precisión y ofrecemos electrodos interdigitados de platino de película fina (IDE) diseñados y fabricados a medida para satisfacer sus requisitos específicos.
Categoría: Fotolitografía
Las películas de poliimida son una opción popular para aplicaciones electrónicas flexibles debido a sus notables propiedades. Estas películas presentan una excelente estabilidad térmica, resistencia mecánica y resistencia química, lo que las hace ideales para su uso en entornos difíciles. Además, su flexibilidad inherente permite diseñar dispositivos ligeros y compactos que pueden adaptarse fácilmente a diversas formas.
Los dispositivos microfluídicos son cada vez más populares por su capacidad para manipular con precisión pequeñas cantidades de fluidos a través de canales estrechos, lo que resulta beneficioso en una serie de aplicaciones y campos científicos, como la biología, la química y la medicina. La mayoría de los dispositivos microfluídicos se basan en la fotolitografía estándar como técnica de microfabricación para modelar sustratos y procesar fotorresinas para la industria electrónica. Sin embargo, la litografía blanda es un complemento de la fotolitografía que puede procesar diversos materiales, como geles y polímeros.
En este blog, nos adentraremos en el mundo de las películas finas de ITO y analizaremos cómo pueden utilizarse las técnicas de fotolitografía y grabado húmedo para crear electrodos conductores transparentes, dispositivos de radiofrecuencia (RF) y mucho más.
La fotolitografía SU-8 es una técnica de microfabricación muy utilizada que emplea un epoxi negativo fotosensible llamado SU-8. El SU-8 se utiliza para crear patrones a micro y nanoescala en la superficie de un sustrato, microestructuras y revestimientos para diversas aplicaciones. Es una elección popular por sus estables características químicas, mecánicas y térmicas. La fotolitografía SU-8 desempeña un papel importante en la fabricación de componentes de sistemas microfluídicos y microelectromecánicos. Esta entrada del blog examinará el procedimiento, las aplicaciones y los instrumentos utilizados para la fotolitografía con SU-8.
Muchas aplicaciones de las ciencias de la vida se benefician de la fotolitografía, un método de microfabricación de materiales, por su bajo coste y la eficacia del proceso. Se cubre un sustrato con un material fotorresistente y se expone a la luz para eliminar zonas específicas, dejando tras de sí una imagen estampada. En esta entrada del blog veremos por qué se utiliza la fotolitografía para crear patrones en superficies metálicas y las ventajas que aporta.
La fotolitografía es la técnica pionera utilizada para generar patrones funcionales en diversos sustratos. La microfabricación de precisión suele producirse a escalas y niveles de rendimiento que los paradigmas de mecanizado convencionales no pueden alcanzar. Ninguna herramienta mecánica puede grabar microelectrónica para dispositivos complejos como circuitos integrados, componentes ópticos y biosensores. La fotolitografía, por su parte, es perfectamente adecuada para esta tarea.
Un problema habitual que puede surgir durante la fabricación fotolitográfica es la adhesión de la capa fotorresistente al sustrato. Un fotorresistente se compone de una resina, un sensibilizador, un promotor de adhesión y un diluyente. Cada componente contribuye a las propiedades generales de la fotorresistencia. Se incluye una resina para soportar una solución grabadora que puede utilizarse en las fases posteriores de la fabricación. Un sensibilizador ofrece un elemento fotosensible a la resina que permite que se exponga en determinadas zonas y no en otras. Se incluye un diluyente para modificar la viscosidad de la capa fotorresistente y facilitar su aplicación sobre el sustrato. El promotor de adherencia incluido no suele ser lo suficientemente potente como para proporcionar suficiente fuerza entre la laca y el material del sustrato.
Internet de las cosas (IoT) engloba objetos físicos que se conectan e intercambian datos con otras tecnologías. IoT ofrece una mayor conectividad, computación en la nube, aprendizaje automático y avances en IA. Los avances emergentes en IoT incluyen la monitorización de máquinas, la monitorización de la salud mediante dispositivos portátiles, la gestión de inventarios y mejoras en la seguridad pública. IoT funciona mediante comunicaciones de dispositivo a dispositivo que se llevan a cabo a través de tecnología de sensores y actuadores.
Puede que piense que una sala blanca es un espacio organizado y ordenado. Sin embargo, una sala blanca certificada es mucho más que eso. Una sala blanca es un espacio para realizar operaciones sensibles a la contaminación por partículas, como la fabricación de semiconductores. Los factores ambientales se modifican para crear una atmósfera limpia controlada. Se filtran las partículas suspendidas en el aire y se regulan la temperatura, la humedad y el flujo de aire.
La litografía es una técnica utilizada para transferir un patrón bidimensional a una superficie plana. Dependiendo del resultado deseado, se pueden utilizar muchos métodos litográficos. Esta entrada del blog tratará sobre los cuatro tipos diferentes de técnicas litográficas y sus aplicaciones.
La creación de un patrón metálico sobre un sustrato puede realizarse mediante diversos métodos. El "metal lift-off" es un método de fabricación que consta de tres pasos: 1) creación de patrones de una película de polímero fotosensible sobre el sustrato objetivo, 2) deposición del metal sobre la película de polímero de los patrones y 3) eliminación del polímero con un disolvente.
La fotolitografía, también conocida como litografía óptica, es una técnica de microfabricación que utiliza la luz para producir películas finas con patrones precisos sobre sustratos como obleas de silicio. Estas películas con patrones suelen proteger áreas seleccionadas del sustrato subyacente durante el procesamiento posterior, como el grabado o la deposición de metales.
La fotolitografía es un proceso de fabricación utilizado en la producción de películas delgadas con patrones para aplicaciones de precisión como microelectrónica, biosensores y electrodos personalizados. El proceso utiliza luz ultravioleta (UV) para exponer un patrón minuciosamente detallado dentro de un revestimiento fotorresistente sensible a la luz.
El revestimiento se deposita sobre un material de sustrato y se coloca una máscara encima del fotorresistente. De este modo, la luz UV sólo interactúa con las zonas de la fotorresistencia que quedan expuestas bajo la máscara. Una vez retirada la máscara, queda un patrón geométrico preciso en la superficie del sustrato, formado mediante la exposición a la luz UV.
¿Qué es la fotolitografía?
La fotolitografía, a veces conocida como litografía óptica o litografía UV, es un proceso que se utiliza en microfabricación para crear patrones superficiales en partes de una película fina o en la mayor parte de un sustrato. La fotolitografía utiliza la luz para transferir un patrón geométrico de una fotomáscara a un fotoresistente químico sensible a la luz o, simplemente, a una resistencia sobre el sustrato.
El proceso fundamental de creación de circuitos integrados (CI) depende de las técnicas de transferencia de patrones englobadas en la fotolitografía. La industria de los circuitos integrados se basa en tres procesos principales: la deposición de metales, la creación de patrones y el dopaje selectivo.
Las técnicas fotolitográficas se utilizan mucho en la industria de los circuitos integrados. Las nuevas normas del sector han creado la necesidad de crear características más pequeñas que permitan un menor consumo de energía.
El microestampado suele realizarse mediante máscaras. La creación de una fotomáscara implica especificaciones importantes que pueden afectar directamente a la transferencia del patrón resultante. Hay que tener en cuenta el material de la máscara, las condiciones ambientales y el tipo de resistencia. Pero antes del procesado, deben determinarse las características de diseño de la fotomáscara.
El campo de la electrónica flexible sigue en auge gracias a los continuos avances tecnológicos. Se están empezando a utilizar nuevos materiales en la fabricación de electrodos para aplicaciones electrónicas flexibles.
El despegue suele realizarse tras una serie de pasos fotolitográficos que crean una capa fotorresistente sobre un sustrato. Los métodos de despegue químico y metálico se utilizan para crear patrones distintivos en una superficie. Ambos tipos de despegado pueden requerir mucho tiempo en comparación con el grabado húmedo, pero el despegado es un método más seguro que ofrece menores costes de producción y una mayor capacidad de procesamiento.
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