Mit Gold beschichtete thermische Oxid-Wafer

Substrat: Erstklassige thermische Oxid-Silizium-Wafer (100 mm Durchmesser, 525 µm dick)

Oxiddicke: 285-nm +/- 5%

Metallschicht: Gold, 50-nm

Reinheit des Goldes: 99.999%

Adhäsionsschicht: Titan, 2,5-nm

Menge: Ein (1) goldbeschichteter Wafer aus thermischem Siliziumoxid