Description
Idéal pour la fabrication de capteurs, de biocapteurs et d'électrodes par photolithographie et par gravure humide.
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$349.00
Substrat : Plaquette de silicium oxyde thermique de première qualité (100 mm de diamètre, 525 µm d'épaisseur)
Épaisseur de l'oxyde: 285-nm +/- 5%
Couche de métal : Or, 50 nm
Pureté de l'or: 99.999%
Couche d'adhérence : Titane, 2.5-nm
Quantité: Une (1) plaquette de silicium à oxyde thermique recouverte d'or
Idéal pour la fabrication de capteurs, de biocapteurs et d'électrodes par photolithographie et par gravure humide.