光学镀膜

Platypus Technologies 提供在客户提供的基底上设计和沉积薄膜光学涂层的服务。

Platypus Technologies 公司利用电子束蒸发技术，通过电介质材料的连续沉积制造光学镀膜。可提供的材料包括氟化镁（MgF₂）、氧化硅（SiO）、二氧化硅（SiO₂）、二氧化钛（TiO₂）、氧化铪（HfO₂)和五氧化二钽 (Ta₂O₅).我们专注于抗反射（AR）涂层和介电镜涂层，其应用领域包括激光系统、光学传感器、成像设备和光谱学。

抗反射涂层

抗反射 (AR) 镀膜旨在降低光学元件的反射率，并增加所需波长范围内的透射率。典型的抗反射涂层包括单层 V 涂层、双波段或 2:1 AR 涂层以及宽带 AR 涂层。在每种情况下，都要对介质层的类型和厚度进行优化，以确保在客户指定的波长范围内反射率最小。

AR 涂层适用于激光器、照相机、显微镜组件和光电探测器的光学表面。

绝缘镜面涂层

电介质镜面镀膜也称为布拉格镜面镀膜，其目的是在选定的波长范围内提供最大的光反射率。此外，还可以为分光镜设计特定级别的反射率。与金属镜面涂层（如铝或银）相比，电介质镜面涂层的吸收率低，抗激光损伤能力强。

介质镜涂层的应用包括干涉仪、激光腔、望远镜和光谱仪的光学表面。

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